[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶面板

说明书

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板。该制作方法包括：在基板上形成限定出多个像素区的黑色矩阵；对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理；在每个所述像素区内形成彩色光阻。该液晶面板包括上述的彩膜基板、与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。该在黑色矩阵制作完成后，对黑色矩阵的表面进行疏水化处理，这样在制作彩色光阻时，便于去除黑色矩阵上方的彩色光阻层，防止彩色光阻的边缘搭接在黑色矩阵上形成牛角，保证彩色光阻的表面平整。

技术领域

本发明属于液晶显示技术领域，具体地讲，涉及一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)作为人与信息的沟通界面，是当前主流的显示方式。它具有高空间利用率、低功耗、无辐射以及低电磁干扰等优越特性，在电视、手机、平板电脑等信息沟通工具中广泛使用。

在LCD的制备过程中，彩色滤光片是必不可少的关键组件。现行的彩色滤光片制备工艺基板为：1、在基板上制作黑色矩形；2、制作彩色光阻；3、制作透明导电膜；4、制作柱状隔垫物。其中，如图1所示，在彩色光阻的制程中，为了保证彩色光阻和黑色矩阵的边界不漏光，彩色光阻2一般在黑色矩阵上形成一定的搭接(Overlap，简称OL)，OL的存在导致整个膜面的平坦度不佳，像素周围形成牛角2A，造成透明导电膜破膜、液晶配向不均和显示画面质量下降。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种具有平坦表面的彩色光阻块的彩膜基板及其制作方法以及液晶面板。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：

S1：在基板上形成限定出多个像素区的黑色矩阵；

S2：对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理；

S3：在每个所述像素区内形成彩色光阻。

优选地，步骤S1具体包括：

在所述基板上形成黑色光阻层；

利用具有预定图案的光罩对所述黑色光阻层进行曝光；

对曝光后的所述黑色光阻层进行显影，以形成所述黑色矩阵；

优选地，对曝光后的所述黑色光阻层进行显影处理之后，所述制作方法还包括：利用紫外光照射所述黑色矩阵，以将所述黑色矩阵固化，从而使得所述黑色矩阵的横截面的形状为倒梯形。

优选地，对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理具体为：采用等离子体工艺对所述黑色矩阵的表面进行处理，以在所述黑色矩阵的表面形成疏水层。

优选地，所述等离子体工艺的工作气体为四氟甲烷。

或者，步骤S2具体为：在所述黑色矩阵的表面涂覆疏水材料，以在所述黑色矩阵的表面上形成疏水层。

优选地，步骤S3具体包括：

在所述黑色矩阵和所述基板上涂覆彩色光阻层；

对所述彩色光阻层进行曝光、显影以及刻蚀处理，以去除所述黑色矩阵表面上的部分所述彩色光阻层，以形成所述彩色光阻。

优选地，所述彩色光阻的厚度与所述黑色矩阵的厚度相同。

本发明还公开了一种采用任一种上述的制作方法制成的彩膜基板。

本发明还公开了一种液晶面板，包括任一种上述的彩膜基板、与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。