[发明专利]一种氧化铜介孔纳米片的制备方法有效
| 申请号： | 201810775268.0 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN108585021B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 刘超;刘冲;纪秀杰;赵阳阳;陈琪玲 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C01G3/02 | 分类号： | C01G3/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人： | 赵凤英 |
| 地址： | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明为一种氧化铜介孔纳米片的制备方法。该方法包括以下步骤：在搅拌条件下，将乙酸铜水溶液和氢氧化钠水溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1～4小时；移到高压反应釜中，密封升温到120℃～160℃，自生压力下水热反应12～36小时；室温下原液静置0～3天，然后水洗，再经抽滤，烘干，得到黑色的氧化铜介孔纳米片。本发明实现氧化铜介孔纳米片材料的绿色、高效、低成本、非表面活性剂导向合成，且该氧化铜介孔纳米片的BET比表面积达到34.7m |
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| 搜索关键词： | 一种 氧化铜 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化铜介孔纳米片的制备方法，其特征为该方法包括以下步骤：（1）制备20份浓度为0.00045~0.0009摩尔/毫升的乙酸铜水溶液，待用；（2）制备20份浓度为0.036~0.072克/毫升的氢氧化钠水溶液，待用；（3）在搅拌条件下，将步骤(1) (2)中配制的溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1~4小时；（4）然后将步骤(3)中所得混合物移到高压反应釜中，密封升温到120℃~160℃，自生压力下水热反应12~36小时；（5）室温下原液静置0~3天，然后水洗，再经抽滤，烘干，得到黑色的氧化铜介孔纳米片。
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