[发明专利]一种氧化铜介孔纳米片的制备方法有效
| 申请号： | 201810775268.0 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN108585021B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 刘超;刘冲;纪秀杰;赵阳阳;陈琪玲 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C01G3/02 | 分类号： | C01G3/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人： | 赵凤英 |
| 地址： | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铜 纳米 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种氧化铜介孔纳米片的制备方法，其特征为该方法包括以下步骤：
（1）制备20份浓度为0.00045~0.0009摩尔/毫升的乙酸铜水溶液，待用；
（2）制备20份浓度为0.036~0.072克/毫升的氢氧化钠水溶液，待用；
（3）在搅拌条件下，将步骤(1) (2)中配制的溶液依次加入到回流反应器中，升温至回流反应温度，反应1~4小时；
（4）然后将步骤(3)中所得混合物移到高压反应釜中，密封升温到120℃~160℃，自生压力下水热反应12~36小时；
（5）室温下原液静置0~3天，然后水洗，再经抽滤，烘干，得到黑色的氧化铜介孔纳米片；
所述的氧化铜介孔纳米片的长度为115~192纳米，宽度为36~86纳米，厚度为8~24纳米的纳米片，且纳米片上分布有孔径为2~5纳米的介孔结构，其BET比表面积为34.7m2/g，孔体积为0.26cm3/g。
2.如权利要求1所述的氧化铜介孔纳米片的制备方法，其特征为所述的步骤（3）中的回流反应温度为100℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北工业大学，未经河北工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810775268.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
