[发明专利]一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法及触摸屏组件有效
| 申请号： | 201810713186.3 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN108874226B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 张文庆;李锋 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法，包括通过基台带动位于基台上的玻璃基板匀速运动，其中，玻璃基板上设有ITO膜层的表面向上；当玻璃基板运动至正对刻蚀液喷头的位置时，通过刻蚀液喷头向ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液；当ITO膜层的刻蚀区形成具有倒梯形横截面的凹槽时，控制玻璃基板表面的刻蚀液流出，使所述ITO膜层不浸泡在刻蚀液中。本发明中所提供的刻蚀方法，能够在一定程度上消除ITO刻蚀图案交界处的刻蚀痕迹，提高触摸屏的视觉效果，提升用户使用体验。本发明还提供一种触摸屏组件，具有上述有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 ito 刻蚀 方法 组件 | ||
【主权项】：
1.一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法，其特征在于，包括：通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动，其中，所述玻璃基板上设有ITO膜层的表面向上；当玻璃基板运动至正对刻蚀液喷头的位置时，通过所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液；当所述ITO膜层的刻蚀区形成具有倒梯形横截面的凹槽时，控制所述玻璃基板表面的刻蚀液流出，使所述ITO膜层不浸泡在所述刻蚀液中。
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