[发明专利]一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法及触摸屏组件

说明书

本发明公开了一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法，包括通过基台带动位于基台上的玻璃基板匀速运动，其中，玻璃基板上设有ITO膜层的表面向上；当玻璃基板运动至正对刻蚀液喷头的位置时，通过刻蚀液喷头向ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液；当ITO膜层的刻蚀区形成具有倒梯形横截面的凹槽时，控制玻璃基板表面的刻蚀液流出，使所述ITO膜层不浸泡在刻蚀液中。本发明中所提供的刻蚀方法，能够在一定程度上消除ITO刻蚀图案交界处的刻蚀痕迹，提高触摸屏的视觉效果，提升用户使用体验。本发明还提供一种触摸屏组件，具有上述有益效果。

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，特别是涉及一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法及触摸屏组件。

背景技术

随着现代社会技术和经济的发展，智能化的水平越来越高，并且已经渗透到了我们日常生活的很多方面，给我们的日常生活带来了巨大便利，全方位智能化体验是未来发展的趋势，而通过触摸屏执行各种人机交互的操作是智能化体验最具代表性的体现之一。

目前主流的显示设备的触摸屏类型有RTP和CTP，并且CTP已逐渐取代RTP占据了主要市场。对于CTP产品，ITO是目前首选的导电材料，但是在制作ITOpattern时，由于ITO折射率与玻璃折射率的不同，使得ITO区域与非ITO区域存在明显的视觉差，即刻蚀痕可见，且随着ITO厚度的增加，刻蚀痕越明显。

发明内容

本发明的目的是提供一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法和一种触摸屏组件，解决了触摸屏上ITO区域和非ITO区域的刻蚀痕明显可见的问题，提高用户对触摸屏使用的视觉体验。

为解决上述技术问题，本发明提供一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法，包括：

通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动，其中，所述玻璃基板上设有ITO膜层的表面向上；

当玻璃基板运动至正对刻蚀液喷头的位置时，通过所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液；

当所述ITO膜层的刻蚀区形成具有倒梯形横截面的凹槽时，控制所述玻璃基板表面的刻蚀液流出，使所述ITO膜层不浸泡在所述刻蚀液中。

其中，所述通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动包括：

通过所述基台带动所述玻璃基板以2.5m/min～5m/min的速度匀速运动；

所述通过所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液包括：

所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层喷射温度为35℃～40℃的刻蚀液，且所述喷头喷射所述刻蚀液的流量为0.2m3/H～0.7m3/H。

其中，所述当所述ITO膜层刻蚀完成后，控制所述玻璃基板表面的刻蚀液流出包括：

当所述ITO膜层被刻蚀预设时长后，将所述玻璃基板倾斜放置，使所述玻璃基板表面的刻蚀液流出。

其中，所述通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动包括：

通过和水平面具有倾斜角的基台带动所述玻璃基板匀速运动，其中，所述基台和水平面之间的夹角的取值范围为。

本发明还提供了一种触摸屏组件，包括玻璃基板以及设置在所述玻璃基板上的ITO膜层；其中，所述ITO膜层为采用如上任一项所述的刻蚀方法刻蚀获得的膜层；所述ITO膜层上的刻蚀区为多个具有倒梯形横截面的凹槽。

其中，所述玻璃基板和所述ITO膜之间还设有IM膜层。