[发明专利]一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法及触摸屏组件有效
| 申请号： | 201810713186.3 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN108874226B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 张文庆;李锋 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 ito 刻蚀 方法 组件 | ||
1.一种触摸屏ITO膜层的刻蚀方法，其特征在于，包括：
通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动，其中，所述玻璃基板上设有ITO膜层的表面向上；
当玻璃基板运动至正对刻蚀液喷头的位置时，通过所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液；
当所述ITO膜层的刻蚀区形成具有倒梯形横截面的凹槽时，控制所述玻璃基板表面的刻蚀液流出，使所述ITO膜层不浸泡在所述刻蚀液中；
所述通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动包括：
通过所述基台带动所述玻璃基板以2.5m/min～5m/min的速度匀速运动；
所述通过所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层上的刻蚀区喷射刻蚀液包括：
所述刻蚀液喷头向所述ITO膜层喷射温度为35℃～40℃的刻蚀液，且所述喷头喷射所述刻蚀液的流量为0.2m3/H～0.7m3/H；
所述当所述ITO膜层刻蚀完成后，控制所述玻璃基板表面的刻蚀液流出包括：
当所述ITO膜层被刻蚀预设时长后，将所述玻璃基板倾斜放置，使所述玻璃基板表面的刻蚀液流出。
2.根据权利要求1所述的刻蚀方法，其特征在于，所述通过基台带动位于所述基台上的玻璃基板匀速运动包括：
通过和水平面具有倾斜角的基台带动所述玻璃基板匀速运动，其中，所述基台和水平面之间的夹角的取值范围为[5°，15°]。
3.一种触摸屏组件，其特征在于，包括玻璃基板以及设置在所述玻璃基板上的ITO膜层；
其中，所述ITO膜层为采用如权利要求1至2任一项所述的刻蚀方法刻蚀获得的膜层；所述ITO膜层上的刻蚀区为多个具有倒梯形横截面的凹槽。
4.根据权利要求3所述的触摸屏组件，其特征在于，所述玻璃基板和所述ITO膜之间还设有IM膜层。
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