[发明专利]涂胶显影设备有效
| 申请号： | 201810710164.1 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN108873626B | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 张心杰;卢超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/38;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 刘小鹤 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种涂胶显影设备，属于机械技术领域。该涂胶显影设备中的预烘烤单元与曝光单元通过目标传输单元连接，目标传输单元包括：依次设置的第一传输模块和第二传输模块，且第二传输模块靠近曝光单元设置，预烘烤单元与第二传输模块叠加设置；第一传输模块用于将预烘烤单元处理后的基板传输至第二传输模块，第二传输模块用于将基板传输至曝光单元。本申请解决了预烘烤单元处理后的基板在曝光单元前堆积的问题，避免了预烘烤单元处理后的基板在曝光单元前堆积，本申请用于涂胶显影设备。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶 显影 设备 | ||
【主权项】：
1.一种涂胶显影设备，其特征在于，所述涂胶显影设备中的预烘烤单元与曝光单元通过目标传输单元连接，所述目标传输单元包括：依次设置的第一传输模块和第二传输模块，且所述第二传输模块靠近所述曝光单元设置，所述预烘烤单元与所述第二传输模块叠加设置；所述第一传输模块用于将所述预烘烤单元处理后的基板传输至所述第二传输模块，所述第二传输模块用于将所述基板传输至所述曝光单元。
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