[发明专利]显示装置及其制备方法在审
| 申请号： | 201810671879.0 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN108878448A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张嘉伟 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种显示装置及其制备方法，显示装置包括依次设置的层间介质层、源/漏极层以及隔离层，其中，隔离层与层间介质层形成隔离部，以包裹源/漏极层。本申请通过隔离层和层间介质层将源/漏极层包裹，从而使得源/漏极层在其后续工艺中不受刻蚀液的腐蚀，能够提高膜层的覆盖性，避免出现负载效应，提高可靠度。 | ||
| 搜索关键词： | 源/漏极 层间介质层 显示装置 隔离层 制备 负载效应 后续工艺 依次设置 覆盖性 隔离部 可靠度 刻蚀液 膜层 申请 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置，其特征在于，包括依次设置的层间介质层、源/漏极层以及隔离层，其中，所述隔离层与所述层间介质层形成隔离部，以包裹所述源/漏极层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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