[发明专利]真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 201810660550.4 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108823534B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 张永峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备，涉及真空蒸镀技术领域，使其能够在基体上镀制膜厚均匀的有机材料镀层。主要采用的技术方案为：真空蒸镀坩埚，其包括：坩埚主体，所述坩埚主体设置有开口；盖体，所述盖体盖在所述坩埚主体的开口上，并与所述坩埚主体可分离连接，所述盖体上设置有连通所述坩埚主体内外的主喷嘴和辅喷嘴；其中，所述主喷嘴垂直设置在所述盖体上，所述辅喷嘴与竖直方向呈预设角度。使用本发明提供的真空蒸镀坩埚对有机发光器件的基体进行镀膜工作时，辅喷嘴喷出的镀膜材料能够对主喷嘴喷出并镀制在基体表面的膜层进行厚度补偿，使最终镀制的膜层更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 坩埚 设备 | ||
【主权项】：
1.一种真空蒸镀坩埚，其特征在于，其包括：坩埚主体，所述坩埚主体设置有开口；盖体，所述盖体盖在所述开口上，并与所述坩埚主体可分离连接，所述盖体上设置有连通所述坩埚主体内外的主喷嘴和辅喷嘴；其中，所述主喷嘴垂直设置在所述盖体上，所述辅喷嘴与竖直方向呈预设角度。
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