[发明专利]真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201810660550.4 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN108823534B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 张永峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 真空 坩埚 设备
【说明书】:

发明是关于一种真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备,涉及真空蒸镀技术领域,使其能够在基体上镀制膜厚均匀的有机材料镀层。主要采用的技术方案为:真空蒸镀坩埚,其包括:坩埚主体,所述坩埚主体设置有开口;盖体,所述盖体盖在所述坩埚主体的开口上,并与所述坩埚主体可分离连接,所述盖体上设置有连通所述坩埚主体内外的主喷嘴和辅喷嘴;其中,所述主喷嘴垂直设置在所述盖体上,所述辅喷嘴与竖直方向呈预设角度。使用本发明提供的真空蒸镀坩埚对有机发光器件的基体进行镀膜工作时,辅喷嘴喷出的镀膜材料能够对主喷嘴喷出并镀制在基体表面的膜层进行厚度补偿,使最终镀制的膜层更均匀。

技术领域

本发明涉及真空蒸镀技术领域,特别是涉及一种真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备。

背景技术

有机发光器件基本结构是在两个电极之间堆叠多层有机薄膜材料,有机薄膜材料的总厚度约为几百纳米,与发光波长为同一数量级。由于各种材料的光学特性不匹配,导致OLED结构内部产生的光子在传输过程中在各层材料间会有反射,折射,波导,吸收和再发射各种光学效应,其发光特性的变化不仅与材料本身特性有关,也与器件光学结构变化有关。

但是,使用现有技术中的镀膜设备制造出来的有机发光器件,其基体上的有机薄膜层膜厚不够均匀,常出现基体中心位置较厚,边缘位置较薄的情况。另外,微共振腔的器件结构设计中,为了达到最佳的出光效果,需要将共振腔共振波长设定于发光体本质发光的峰值波长,且需将发光体至于两镜面电极的共同反节点附近,但由于各有机薄膜层膜厚均一性水平的差异,使得基板不同位置共振腔腔体长度及发光体与共振腔的位置出现差异,最终影响到耦合出光的峰值出现红移或蓝移,致使OLED显示器显示时颜色的均一性差,显示效果达不到要求。

发明内容

本发明的主要目的在于,提供一种新型结构的真空蒸镀坩埚及真空蒸镀设备,使其能够在基体上镀制膜厚均匀的有机材料镀层。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种真空蒸镀坩埚,其包括:

坩埚主体,所述坩埚主体设置有开口;

盖体,所述盖体盖在所述开口上,并与所述坩埚主体可分离连接,所述盖体上设置有连通所述坩埚主体内外的主喷嘴和辅喷嘴;

其中,所述主喷嘴垂直设置在所述盖体上,所述辅喷嘴与竖直方向呈预设角度。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述辅喷嘴与竖直方向的夹角为0-30度。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述主喷嘴在水平方向的截面积大于所述辅喷嘴在垂直于其设置方向的截面积。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述主喷嘴与所述辅喷嘴均为圆柱形喷嘴;

所述主喷嘴的口径与所述辅喷嘴的口径比为1:1-3:1。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述主喷嘴与所述辅喷嘴相对的分布在以所述盖体中心为原点的圆周上,且所述主喷嘴的中心与所述辅喷嘴的中心均设置在所述圆周上。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述盖体的厚度为30-50mm。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其还包括:

导流片,所述导流片上设置有通孔,所述导流片设置在所述坩埚主体中,将所述坩埚主体分成上腔体和下腔体;

其中,所述下腔体中用于放置待蒸镀材料。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其中所述通孔的数量为多个,多个所述通孔以所述导流片的中心为轴均布一周。

优选的,前述的真空蒸镀坩埚,其还包括:

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