[发明专利]超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810654722.7 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN108930027B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 王鹏飞;钱娟;褚繁 申请(专利权)人: 无锡众创未来科技应用有限公司
主分类号: C23C16/38 分类号: C23C16/38
代理公司: 广州市百拓共享专利代理事务所(特殊普通合伙) 44497 代理人: 卢刚
地址: 214100 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法,包括以下步骤:选择基板衬底,清洗基板衬底,抽真空,加热基板衬底,通入氩气和氢气的混合气体,将乙硼烷引入沉积室内,加热基板衬底至400℃以上,使单质B沉积到基板上生成无定形B薄膜,降温至常温,将B薄膜基板和高纯镁颗粒放入密闭坩埚内,在高纯氩气下退火10min,在退火过程中,以20℃/min的速度升温至800‑1000℃,然后保温30‑40min,自然降温至室温。该制备方法所制备的MgB2超导体致密度高、纯度高,同时步骤简单,易于操作,成本低,不污染环境,实用价值高。
搜索关键词: 超导 电缆 用二硼化镁 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)选择基板衬底,(2)清洗基板衬底5分钟,去除油污,使用氮气吹干后保存,(3)启动机械泵将沉积室抽低真空,然后启动分子泵抽高真空,加热基板衬底,通入氩气和氢气的混合气体,使沉积室内气压保持在0.01Pa,保持时间为10‑15分钟,将乙硼烷引入沉积室内,保持气压为1000‑5000Pa,加热基板衬底至400℃以上,使单质B沉积到基板上生成无定形B薄膜,沉积时间为10‑30min,以10℃/min的速度降温至常温,完成B薄膜的制备,(4)将B薄膜基板和高纯镁颗粒放入密闭坩埚内,镁颗粒的直径为0.3‑0.5cm,在高纯氩气下退火10min,退火温度为800‑1000℃,在退火过程中,以20℃/min的速度升温至800‑1000℃,然后保温30‑40min,自然降温至室温。
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