[发明专利]超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 201810654722.7 | 申请日: | 2018-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN108930027B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
| 发明(设计)人: | 王鹏飞;钱娟;褚繁 | 申请(专利权)人: | 无锡众创未来科技应用有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/38 | 分类号: | C23C16/38 |
| 代理公司: | 广州市百拓共享专利代理事务所(特殊普通合伙) 44497 | 代理人: | 卢刚 |
| 地址: | 214100 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: |
一种超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法,包括以下步骤:选择基板衬底,清洗基板衬底,抽真空,加热基板衬底,通入氩气和氢气的混合气体,将乙硼烷引入沉积室内,加热基板衬底至400℃以上,使单质B沉积到基板上生成无定形B薄膜,降温至常温,将B薄膜基板和高纯镁颗粒放入密闭坩埚内,在高纯氩气下退火10min,在退火过程中,以20℃/min的速度升温至800‑1000℃,然后保温30‑40min,自然降温至室温。该制备方法所制备的MgB |
||
| 搜索关键词: | 超导 电缆 用二硼化镁 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超导电缆用二硼化镁超导薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)选择基板衬底,(2)清洗基板衬底5分钟,去除油污,使用氮气吹干后保存,(3)启动机械泵将沉积室抽低真空,然后启动分子泵抽高真空,加热基板衬底,通入氩气和氢气的混合气体,使沉积室内气压保持在0.01Pa,保持时间为10‑15分钟,将乙硼烷引入沉积室内,保持气压为1000‑5000Pa,加热基板衬底至400℃以上,使单质B沉积到基板上生成无定形B薄膜,沉积时间为10‑30min,以10℃/min的速度降温至常温,完成B薄膜的制备,(4)将B薄膜基板和高纯镁颗粒放入密闭坩埚内,镁颗粒的直径为0.3‑0.5cm,在高纯氩气下退火10min,退火温度为800‑1000℃,在退火过程中,以20℃/min的速度升温至800‑1000℃,然后保温30‑40min,自然降温至室温。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡众创未来科技应用有限公司,未经无锡众创未来科技应用有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810654722.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





