[发明专利]Mn-Zn-W-O系溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201810651297.6 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN109695021B | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 加守雄一 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C29/12;C22C1/05 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李志强;杨戬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供：尽管Mn相对于W的金属摩尔比(Mn/W)为1.0以上，但在用于DC溅射时，抑制异常放电，并且可稳定成膜的Mn‑Zn‑W‑O系溅射靶材及其制备方法。所述溅射靶材是在成分组成中含有Mn、Zn、W和O的Mn‑Zn‑W‑O系溅射靶材，其中，Mn相对于W的含量比(Mn/W)为1.0以上，含有W、MnWO |
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| 搜索关键词： | mn zn 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.溅射靶材，其是在成分组成中含有Mn、Zn、W和O的Mn‑Zn‑W‑O系溅射靶材，其中，Mn相对于W的含量比(Mn/W)为1.0以上，含有W、MnWO4和MnO的结晶相，按W的结晶相和MnWO4的结晶相的总和为100摩尔%计，W的结晶相超过16摩尔%。
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