[发明专利]显示装置及其制造方法

摘要

提供了一种显示装置及其制造方法。所述显示装置包括公共有源图案、第一栅电极和第二栅电极。公共有源图案包括NMOS区、PMOS区以及与NMOS区和PMOS区在同一层中的硅化物区。硅化物区将NMOS区电连接到PMOS区。NMOS区包括第一沟道区和接触第一沟道区的n掺杂区。PMOS区包括第二沟道区和接触第二沟道区的p掺杂区。第一栅电极与第一沟道区叠置，第二栅电极与第二沟道区叠置。

主权项

1.一种显示装置，所述显示装置包括：公共有源图案，包括NMOS区、PMOS区以及硅化物区，所述硅化物区与所述NMOS区和所述PMOS区在同一层中，并且所述硅化物区将所述NMOS区电连接到所述PMOS区，所述NMOS区包括第一沟道区和接触所述第一沟道区的n掺杂区，所述PMOS区包括第二沟道区和接触所述第二沟道区的p掺杂区；第一栅电极，与所述第一沟道区叠置；以及第二栅电极，与所述第二沟道区叠置。