[发明专利]一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法在审
| 申请号： | 201810606746.5 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN108570651A | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;朱惠钦 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于镀膜设备技术领域，具体公开一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其沿着基片前进的方向依次包括上料台、进片室、加热室、前缓冲室、至少两个相互独立的磁控溅射真空镀膜室、后缓冲室、冷却室及下料台，还包括用于传输基片的传输机构。该磁控溅射镀膜生产线磁控溅射的成膜效果好，满足多层功能性薄膜的连续镀膜需求，同时其生产效率高，靶材的利用率高，减少靶材的使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射镀膜 磁控溅射 多腔室 靶材 功能性薄膜 真空镀膜室 成膜效果 传输基片 传输机构 镀膜设备 连续镀膜 前缓冲室 生产效率 缓冲室 加热室 进片室 冷却室 上料台 下料台 镀膜 多层 | ||
【主权项】：
1.一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：沿着基片前进的方向依次包括上料台、进片室、加热室、前缓冲室、至少两个相互独立的磁控溅射真空镀膜室、后缓冲室、冷却室及下料台，还包括用于传输基片的传输机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东振华科技股份有限公司，未经广东振华科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810606746.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
