[发明专利]一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线及其镀膜方法在审
| 申请号： | 201810606746.5 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN108570651A | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;朱惠钦 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射镀膜 磁控溅射 多腔室 靶材 功能性薄膜 真空镀膜室 成膜效果 传输基片 传输机构 镀膜设备 连续镀膜 前缓冲室 生产效率 缓冲室 加热室 进片室 冷却室 上料台 下料台 镀膜 多层 | ||
1.一种多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：沿着基片前进的方向依次包括上料台、进片室、加热室、前缓冲室、至少两个相互独立的磁控溅射真空镀膜室、后缓冲室、冷却室及下料台，还包括用于传输基片的传输机构。
2.根据权利要求1所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述磁控溅射真空镀膜室内设有圆柱状磁控溅射靶。
3.根据权利要求1所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述磁控溅射真空镀膜室的数量为三个。
4.根据权利要求1所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：所述传输机构为变频电机减速机传动机构。
5.根据权利要求1至4任一项所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线的镀膜方法，其具体步骤是：
(1)预抽真空及离子放电清洗预处理工序，将基片从上料台传输至进片室后，在进片室内进行预抽真空工序，再经过离子放电清洗预处理；
(2)加热处理工序：在加热室内对基片进行加热处理；
(3)前缓冲处理工序：在前缓冲室内将加热的基片进行缓冲过渡；
(4)多道连续磁控溅射真空镀膜处理工序：将基片依次进过相互独立的磁控溅射真空镀膜室进行镀膜处理；
(5)后缓冲处理工序：将进行了多道磁控溅射真空镀膜处理的基片进行缓冲过渡至大气压；
(6)冷却处理工序：在冷却室内将已经镀膜的基片进行冷却处理恢复至室温；
(7)出料工序：将冷却室出来的常温常压的镀膜产品输送至下料台。
6.根据权利要求5所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线的镀膜方法，其特征在于：
上述步骤(1)预抽真空及离子放电清洗预处理工序中，采用射频高压放电电源对基片表面进行氩气放电清洗，处理气压为5-100Pa，放电功率为100-500W，放电清洗时间为10-20分钟。
7.根据权利要求5所述的多腔室卧式磁控溅射镀膜生产线的镀膜方法，其特征在于：上述步骤(2)的加热处理工序具体是，将基片传送至加热室，在200-250摄氏度温度下对基片烘烤15-20分钟。
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