[发明专利]工艺腔室和半导体处理设备在审
| 申请号： | 201810529483.2 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN110538533A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 刘耀琴;杨帅;刘建涛;黄扬君 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B01D50/00 | 分类号： | B01D50/00 |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 彭瑞欣;姜春咸<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种工艺腔室和半导体处理设备。包括：用于放置基片的腔室本体，以及用于对进入所述腔室本体内的工艺气体中的颗粒杂质进行过滤的过滤器，还包括磁性吸附件，所述磁性吸附件用于吸附进入所述腔室本体内的工艺气体中的金属颗粒杂质。外界的工艺气体在进入腔室本体内时，可以利用过滤器过滤掉该工艺气体中的绝大部分颗粒杂质，此外，借助磁性吸附件吸附工艺气体中的金属颗粒杂质，从而可以将过滤器无法过滤掉的微小金属颗粒进行吸附，使得进入到腔室本体内的工艺气体更洁净，进而可以提高基片的工艺质量。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺气体 过滤器 磁性吸附件 体内 腔室 吸附 过滤 金属颗粒杂质 颗粒杂质 半导体处理设备 微小金属颗粒 工艺腔室 腔室本体 进入腔 洁净 | ||
【主权项】：
1.一种工艺腔室，包括：用于放置基片的腔室本体，以及用于对进入所述腔室本体内的工艺气体中的颗粒杂质进行过滤的过滤器；其特征在于，还包括：磁性吸附件；/n所述磁性吸附件用于吸附进入所述腔室本体内的工艺气体中的金属颗粒杂质。/n
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