[发明专利]自动功率控制光点发射器有效

专利信息
申请号: 201810521808.2 申请日: 2018-05-28
公开(公告)号: CN110544876B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 黄忠民;谢佳宏;林俊廷;吴明倬;方铭辉 申请(专利权)人: 华信光电科技股份有限公司
主分类号: H01S5/068 分类号: H01S5/068
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 代理人: 郑永康
地址: 中国台湾桃园市平*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种自动功率控制光点发射器,包含:一壳罩,其上依序具有一容置空间及一位于容置空间上方的平台,并盖于基板上,使自动功率控制IC、激光二极管及光反射元件位于壳罩内,且容置空间及平台位于自动功率控制IC、激光二极管及光反射元件的上方;一准直镜;以及一绕射光学元件,黏着于壳罩的平台上;激光二极管投射一激光在光反射元件上,使光反射元件将激光垂直射出于准直镜至绕射光学元件,让绕射光学元件可产生数个光点,以自动功率控制IC的检光二极管侦测杂散光,形成一可读取的检光讯号,检光讯号回授控制激光二极管的输出而调整激光所射出的功率比例,并以激光所射出的功率比例而控制绕射光学元件的各光点发射。
搜索关键词: 自动 功率 控制 发射器
【主权项】:
1.一种自动功率控制光点发射器,其特征在于,包括:/n一基板;/n一自动功率控制IC,其具有一检光二极管,并固定于该基板上;/n一固定座,固定在该基板上;/n一激光二极管,固定在该固定座上,并耦接该自动功率控制IC;/n一光反射元件,固定在该激光二极管的前方;/n一壳罩,其上依序具有一容置空间及一位于该容置空间上方的平台,并盖于该基板上,使该自动功率控制IC、该激光二极管及该光反射元件位于该壳罩内,且该容置空间及该平台位于该自动功率控制IC、该激光二极管及该光反射元件的上方;/n一准直镜,固置在该壳罩的容置空间内,使该准直镜位于该自动功率控制IC、该激光二极管及该光反射元件的上方;以及/n一绕射光学元件,黏着于该壳罩的平台上,使该绕射光学元件位于该准直镜的上方;/n借此,该激光二极管投射一激光在该光反射元件上,使该光反射元件将该激光垂直射出于该准直镜至该绕射光学元件,让该绕射光学元件可产生数个光点,且该激光在该壳罩内经由反射产生一杂散光,并以该自动功率控制IC的检光二极管侦测该杂散光,形成一可读取的检光讯号,该检光讯号回授控制该激光二极管的输出而调整该激光所射出的功率比例,并以该激光所射出的功率比例而控制该绕射光学元件的各该光点发射。/n
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