[发明专利]一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810449127.X 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN108511502B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 王琳琳;闫光 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法,其中,所述阵列基板包括:基板;形成在基板上的像素界定层;所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽;形成在像素界定层及基板上的发光层;其中,覆盖在像素界定层上的发光层,在背离像素界定层的方向具有第二凹槽,所述第二凹槽在像素界定层上的正投影位于第一凹槽内;形成在第二凹槽内的辅助电极层。通过本发明实施例提供的阵列基板,在像素界定层上制备凹槽,使阵列基本的制备过程简单,提高了阵列基板制备的效率。进一步的,在凹槽内形成辅助电极层,提高了电极的导电率。
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 显示装置 制备 方法
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;形成在所述基板上的像素界定层;所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽;形成在所述像素界定层及所述基板上的发光层;其中,覆盖在所述像素界定层上的所述发光层,在背离所述像素界定层的方向具有第二凹槽,所述第二凹槽在所述像素界定层上的正投影位于所述第一凹槽内;形成在所述第二凹槽内的辅助电极层。
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