[发明专利]一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法有效
申请号: | 201810449127.X | 申请日: | 2018-05-11 |
公开(公告)号: | CN108511502B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 王琳琳;闫光 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 显示 面板 显示装置 制备 方法 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
基板;
形成在所述基板上的像素界定层;所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽;其中,在所述基板上形成所述像素界定层之前,形成第二导电层;
形成在所述像素界定层及所述基板上的发光层;其中,覆盖在所述像素界定层上的所述发光层,在背离所述像素界定层的方向具有第二凹槽,所述第二凹槽在所述像素界定层上的正投影位于所述第一凹槽内;
形成在所述第二凹槽内的辅助电极层;
在所述第二凹槽的槽底还形成有表面修饰层,所述辅助电极层形成在所述表面修饰层上;所述表面修饰层具有导电性和粘附性;
所述表面修饰层的材料包括聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐的水溶液。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板,还包括:
覆盖所述发光层和所述辅助电极层的第一导电层;其中,所述第一导电层与所述辅助电极层连接。
3.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包含如权利要求1-2任一所述的阵列基板。
4.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包含上述权利要求3所述的显示面板。
5.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供基板;
在所述基板上形成像素界定层,所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽;其中,在所述基板上形成所述像素界定层之前,形成第二导电层;
形成发光层;其中,覆盖在所述像素界定层上的所述发光层,在背离所述像素界定层的方向具有第二凹槽,所述第二凹槽在所述像素界定层上的正投影位于所述第一凹槽内;
制作脱模板;所述脱模板具有多个凸起的辅助电极层;
将所述脱模板压合在所述发光层上,其中,所述辅助电极层与所述第二凹槽对位贴合;
移除所述脱模板,使所述辅助电极层嵌入并贴合在所述第二凹槽的内部;
在所述将所述脱模板压合在所述发光层上之前,还包括:
在所述第二凹槽的槽底形成表面修饰层,所述表面修饰层具有导电性和粘附性;所述表面修饰层的材料包括聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐的水溶液。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述制作脱模板,包括:
制备表面具有多个凸起的脱模板基底;
在所述凸起背离所述脱模板基底的一面上形成抗粘连层;
在所述抗粘连层上形成所述辅助电极层。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在所述凸起背离所述脱模板基底的一面上形成抗粘连层,包括:
在所述凸起背离所述脱模板基底的一面上旋涂四氟乙烯,形成抗粘连层;
或,
在所述凸起背离所述脱模板基底的一面用气相沉积法制备全氟辛基三氯硅烷,形成抗粘连层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的