[发明专利]一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法

说明书

本发明提供了一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法，其中，所述阵列基板包括：基板；形成在基板上的像素界定层；所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽；形成在像素界定层及基板上的发光层；其中，覆盖在像素界定层上的发光层，在背离像素界定层的方向具有第二凹槽，所述第二凹槽在像素界定层上的正投影位于第一凹槽内；形成在第二凹槽内的辅助电极层。通过本发明实施例提供的阵列基板，在像素界定层上制备凹槽，使阵列基本的制备过程简单，提高了阵列基板制备的效率。进一步的，在凹槽内形成辅助电极层，提高了电极的导电率。

技术领域

本发明涉及OLED技术领域，特别是涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法。

背景技术

顶发射OLED(有机发光二极管)器件，由于具有更高的开口率和利用微腔效应实现光取出优化等优点，成为目前研究的主要方向。但是这种结构要求OLED的顶电极必须具备良好的光透过率，而ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等透明度高的材料，其导电性能弱于金属。

现有技术中，将金属作为辅助电极，采用光刻的方法制作在BM覆盖的区域，主要需要经过BM(黑矩阵)工序、CF(彩膜)工序、辅助电极工序、PS(割垫物)工序、ITO(氧化铟锡)工序，而这些工序工艺过程复杂，均需在黄光环境中完成，成本较高，不适合量产。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法，以解决现有的辅助电极的制备方法复杂或辅助电极的导电效果不是很理想的问题。

为了解决上述问题，本发明公开了一种阵列基板，包括：

基板；

形成在所述基板上的像素界定层；所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽；

形成在所述像素界定层及所述基板上的发光层；其中，覆盖在所述像素界定层上的所述发光层，在背离所述像素界定层的方向具有第二凹槽，所述第二凹槽在所述像素界定层上的正投影位于所述第一凹槽内；

形成在所述第二凹槽内的辅助电极层。

其中，所述阵列基板，还包括：覆盖所述发光层和所述辅助电极层的第一导电层；其中，所述第一导电层与所述辅助电极层连接。

其中，在所述第二凹槽的槽底还形成有表面修饰层，所述辅助电极层形成在所述表面修饰层上；所述表面修饰层具有导电性和粘附性。

其中，所述表面修饰层为3,4-乙烯二氧噻吩的水溶液。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示面板，包含上述所述的阵列基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包含上述所述的显示面板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种阵列基板的制备方法，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板上形成像素界定层，所述像素界定层在背离所述基板的方向上具有第一凹槽；

形成发光层；其中，覆盖在所述像素界定层上的所述发光层，在背离所述像素界定层的方向具有第二凹槽，所述第二凹槽在所述像素界定层上的正投影位于所述第一凹槽内；

制作脱模板；所述脱模板具有多个凸起的辅助电极层；

将所述脱模板压合在所述发光层上，其中，所述辅助电极层与所述第二凹槽对位贴合；

移除所述脱模板，使所述辅助电极层嵌入并贴合在所述第二凹槽的内部。

其中，在所述将所述脱模板压合在所述发光层上之前，还包括：

在所述第二凹槽的槽底形成表面修饰层，所述表面修饰层具有导电性和粘附性。