[发明专利]一种异甘草素的合成方法在审

专利信息
申请号: 201810373979.5 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN108440264A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 杨双兵;门万辉;金联明;邹菁 申请(专利权)人: 湖北凌晟药业有限公司;武汉工程大学
主分类号: C07C45/65 分类号: C07C45/65;C07C49/835;C07F7/18
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 李荣文
地址: 441141 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及有机合成技术领域,具体公开一种异甘草素的合成方法。所述异甘草素的合成方法,以2,4‑羟基苯乙酮和4‑羟基苯甲醛为原料,经过羟基保护,羟醛缩合,羟基脱保护反应,即可得到产物异甘草素。本发明提供的异甘草素的合成方法,方法简单易行,反应条件温和,安全可靠,原料易得,价格便宜,成本低,采用二甲基叔丁基氯硅烷、三异丙基氯硅烷中的至少一种对4‑羟基苯甲醛和2,4‑二羟基苯乙酮的4‑羟基进行羟基保护,降低副产物生成的风险,提高异甘草素的产率,适合工业化生产。
搜索关键词: 异甘草素 合成 羟基苯甲醛 羟基保护 羟基 二甲基叔丁基氯硅烷 三异丙基氯硅烷 二羟基苯乙酮 有机合成技术 脱保护反应 羟基苯乙酮 反应条件 羟醛缩合 副产物 产率
【主权项】:
1.一种异甘草素的合成方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)提供2,4‑二羟基苯乙酮,将所述2,4‑二羟基苯乙酮与碱性试剂、有机溶剂混合后,加入羟基保护试剂,在0‑100℃条件下搅拌反应,对所述2,4‑二羟基苯乙酮的4位羟基进行羟基保护;(2)提供4‑羟基苯甲醛,将所述4‑羟基苯甲醛与碱性试剂、有机溶剂混合后,加入羟基保护试剂,在0‑100℃条件下搅拌反应,对所述4‑羟基苯甲醛进行羟基保护;(3)将经步骤(1)羟基保护后的2,4‑二羟基苯乙酮、经步骤(2)羟基保护后的4‑羟基苯甲醛在有机溶剂中混合,加入路易斯碱,在25~100℃条件下搅拌反应,得到羟醛缩合产物;(4)将步骤(3)中所述羟醛缩合产物加入到有机溶剂中,加入四丁基氟化胺的四氢呋喃溶液,在10~100℃条件下搅拌反应,对所述羟醛缩合产物进行脱保护处理,制备得到异甘草素;其中,步骤(1)、步骤(2)中所述的羟基保护试剂单独选自二甲基叔丁基氯硅烷、三异丙基氯硅烷中的至少一种。
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