[发明专利]一种镀膜设计方法及透明基板在审
| 申请号： | 201810247555.4 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108490519A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 石炳川 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种镀膜设计方法及透明基板，涉及显示技术领域，解决了现有半透半反膜采用的整体镀膜方法设计复杂、工艺要求高和成本较高的问题；该镀膜设计方法包括以下步骤：(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料；(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比；(3)按照所计算的透射区域的占比，对镀在透明基板上的反射膜进行开口，具体为：将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域；当透射区域的占比为Za时，对其中Za*M*N个子区域进行完全开口，形成反射膜图形结构。本申请的方法具有设计简单，生产工艺要求低的特点，而且可以大大提高产品的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 透明基板 透射区域 镀膜 反射膜 开口 生产工艺要求 半透半反膜 等面积矩形 反射率计算 反射膜材料 反射膜区域 工艺要求 图形结构 整体镀膜 透射率 子区域 申请 透明 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设计方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料；(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比；(3)按照所计算的透射区域的占比，对镀在透明基板上的反射膜进行开口，具体为：将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域；当透射区域的占比为Za时，对其中Za*M*N个子区域进行完全开口，形成反射膜图形结构。
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