[发明专利]一种镀膜设计方法及透明基板在审
申请号: | 201810247555.4 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108490519A | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 石炳川 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明基板 透射区域 镀膜 反射膜 开口 生产工艺要求 半透半反膜 等面积矩形 反射率计算 反射膜材料 反射膜区域 工艺要求 图形结构 整体镀膜 透射率 子区域 申请 透明 | ||
1.一种镀膜设计方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料;
(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比;
(3)按照所计算的透射区域的占比,对镀在透明基板上的反射膜进行开口,具体为:将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域;当透射区域的占比为Za时,对其中Za*M*N个子区域进行完全开口,形成反射膜图形结构。
2.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述子区域的尺度低于人眼的分辨极限。
3.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,根据所要求的透射率或反射率按照以下的公式计算透射区域的占比:
镀反射膜的透明基板的整体透射率T=Za*Tg+Zb*Tf,镀反射膜的透明基板的整体反射率R=Za*Rg+Zb*Rf,且Tg+Ag+Rg=1,Tf+Af+Rf=1,Za+Zb=1,其中Tg为透明基板的透射率,Ag为透明基板的吸收率,Rg为透明基板的反射率,Tf为反射区域的透射率,Af为反射区域的吸收率,Rf为反射区域的反射率,Za为透射区域的占比,Zb为反射区域的占比,由此可推出:
透射区域的占比为:Za=(T-Tf)/(Tg-Tf),
反射区域的占比为:Zb=(R-Rg)/(Rf-Rg)。
4.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,对其中Za*M*N个子区域进行完全开口后,形成的反射膜图形结构为栅栏状结构。
5.根据权利要求4所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述栅栏状结构的宽度小于人眼的分辨极限。
6.根据权利要求4所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述栅栏状结构为曲线栅栏状结构。
7.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,采用计算机随机生成的图形结构,对镀在透明基板上的反射膜进行开口。
8.根据权利要求7所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述采用计算机随机生成的图形结构,对镀在透明基板上的反射膜进行开口,具体为:
利用计算机对各个子区域随机赋值,第i个子区域赋值Xi,其中Xi∈{1,2,3,…,M*N},当i≠j时,Xi≠Xj,1≤i≤M*N,1≤j≤M*N,且各个子区域的数值的大小呈均匀分布,再对值大于(1-Za)*M*N的所有子区域进行开口。
9.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述透明基板为玻璃基板。
10.一种透明基板,其特征在于,所述透明基板上具有根据权利要求1-9任一项所述的镀膜设计方法镀制的反射膜。
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