[发明专利]一种镀膜设计方法及透明基板在审

专利信息
申请号: 201810247555.4 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108490519A 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 石炳川 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透明基板 透射区域 镀膜 反射膜 开口 生产工艺要求 半透半反膜 等面积矩形 反射率计算 反射膜材料 反射膜区域 工艺要求 图形结构 整体镀膜 透射率 子区域 申请 透明
【权利要求书】:

1.一种镀膜设计方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料;

(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比;

(3)按照所计算的透射区域的占比,对镀在透明基板上的反射膜进行开口,具体为:将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域;当透射区域的占比为Za时,对其中Za*M*N个子区域进行完全开口,形成反射膜图形结构。

2.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述子区域的尺度低于人眼的分辨极限。

3.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,根据所要求的透射率或反射率按照以下的公式计算透射区域的占比:

镀反射膜的透明基板的整体透射率T=Za*Tg+Zb*Tf,镀反射膜的透明基板的整体反射率R=Za*Rg+Zb*Rf,且Tg+Ag+Rg=1,Tf+Af+Rf=1,Za+Zb=1,其中Tg为透明基板的透射率,Ag为透明基板的吸收率,Rg为透明基板的反射率,Tf为反射区域的透射率,Af为反射区域的吸收率,Rf为反射区域的反射率,Za为透射区域的占比,Zb为反射区域的占比,由此可推出:

透射区域的占比为:Za=(T-Tf)/(Tg-Tf),

反射区域的占比为:Zb=(R-Rg)/(Rf-Rg)。

4.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,对其中Za*M*N个子区域进行完全开口后,形成的反射膜图形结构为栅栏状结构。

5.根据权利要求4所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述栅栏状结构的宽度小于人眼的分辨极限。

6.根据权利要求4所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述栅栏状结构为曲线栅栏状结构。

7.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,采用计算机随机生成的图形结构,对镀在透明基板上的反射膜进行开口。

8.根据权利要求7所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述采用计算机随机生成的图形结构,对镀在透明基板上的反射膜进行开口,具体为:

利用计算机对各个子区域随机赋值,第i个子区域赋值Xi,其中Xi∈{1,2,3,…,M*N},当i≠j时,Xi≠Xj,1≤i≤M*N,1≤j≤M*N,且各个子区域的数值的大小呈均匀分布,再对值大于(1-Za)*M*N的所有子区域进行开口。

9.根据权利要求1所述的镀膜设计方法,其特征在于,所述透明基板为玻璃基板。

10.一种透明基板,其特征在于,所述透明基板上具有根据权利要求1-9任一项所述的镀膜设计方法镀制的反射膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810247555.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top