[发明专利]一种镀膜设计方法及透明基板

说明书

本申请公开了一种镀膜设计方法及透明基板，涉及显示技术领域，解决了现有半透半反膜采用的整体镀膜方法设计复杂、工艺要求高和成本较高的问题；该镀膜设计方法包括以下步骤：(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料；(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比；(3)按照所计算的透射区域的占比，对镀在透明基板上的反射膜进行开口，具体为：将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域；当透射区域的占比为Z_a时，对其中Z_a*M*N个子区域进行完全开口，形成反射膜图形结构。本申请的方法具有设计简单，生产工艺要求低的特点，而且可以大大提高产品的稳定性。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种镀膜设计方法及透明基板。

背景技术

增强现实和车/机载抬头显示等领域因为需要同时融合外部透射光束和内部器件成像光束，对于半透半反式类光学器件具有广泛的需求。现有技术采用整体镀膜技术，通过设计多层膜结构实现对光束透反比的控制，由于膜层材料需要对可见光所覆盖的较长波段具有透射反射比例调节作用，会导致膜层设计复杂，对于膜层材料、基底材料、工艺稳定性要求高，造成器件加工工艺复杂，成本较高。

申请内容

本申请实施例通过提供一种镀膜设计方法及透明基板，解决了现有半透半反膜采用的整体镀膜方法设计复杂、工艺要求高和成本较高的问题，提供了一种透射反射比例可调且设计简单、生产工艺要求低和稳定性高的镀膜方法。

为达到上述目的，本申请主要提供如下技术方案：

一方面，本申请实施例提供了一种镀膜设计方法，包括以下步骤：

(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料；

(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比；

(3)按照所计算的透射区域的占比，对镀在透明基板上的反射膜进行开口，具体为：将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域；当透射区域的占比为Z_a时，对其中Z_a*M*N个子区域进行完全开口，形成反射膜图形结构。

作为优选，所述子区域的尺度低于人眼的分辨极限。

作为优选，根据所要求的透射率或反射率按照以下的公式计算透射区域的占比：

镀反射膜的透明基板的整体透射率T＝Z_a*T_g+Z_b*T_f，镀反射膜的透明基板的整体反射率R＝Z_a*R_g+Z_b*R_f，且T_g+A_g+R_g＝1，T_f+A_f+R_f＝1，Z_a+Z_b＝1，其中T_g为透明基板的透射率，A_g为透明基板的吸收率，R_g为透明基板的反射率，T_f为反射区域的透射率，A_f为反射区域的吸收率，R_f为反射区域的反射率，Z_a为透射区域的占比，Z_b为反射区域的占比，由此可推出：

透射区域的占比为：Z_a＝(T-T_f)/(T_g-T_f)，

反射区域的占比为：Z_b＝(R-R_g)/(R_f-R_g)。

作为优选，对其中Z_a*M*N个子区域进行完全开口后，形成的反射膜图形结构为栅栏状结构。