[发明专利]基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201810237717.6 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108410203B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 朱为宏;郭志前;张杰;顾开智;徐益升;叶红华 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学;广州蓝之天化工科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C09B23/10 | 分类号： | C09B23/10;C09K11/06;G01N21/64 |
| 代理公司： | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人： | 顾雯 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料以及该染料的制备方法。所述聚集诱导发光染料具有式Ⅰ所示结构。另外，本发明还提供了所述荧光染料对线粒体荧光标记的应用。测试表明，本发明提供的聚集诱导发光染料具有近红外发射、斯托克斯位移大、光稳定性强、细胞毒性小以及水溶性好等诸多优点，能够实现对线粒体的长时间示踪和三维可视化成像。 |
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| 搜索关键词： | 基于 聚集 诱导 发光 红外 斯托 位移 稳定 荧光 染料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料，其结构如式Ⅰ所示：![]()
式Ⅰ中，R1、R2分别独立选自：氰基(‑CN)和式Ⅱ所示基团(其中曲线标记处为取代位，下同)中的任意一种；R3独立选自：C1～C12的烃基、苯基或对乙酰氨基取代苯基中的任意一种；![]()
R4和R5是氢(‑H)、氮杂环丁基、以及式Ⅲ所示基团中的任意一种与式Ⅳ所示基团的组合，并且在组合中，式Ⅳ所示基团是R4或者是R5，其中，R6分别独立选自：‑H或C1～C4烷基中任意一种，n为1‑6的整数。
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