[发明专利]基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料及其制备方法和应用

权利要求书

1.基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料，其结构如式Ⅰ所示：

式Ⅰ中，

R₁、R₂分别独立选自：氰基(-CN)和式Ⅱ所示基团(其中曲线标记处为取代位，下同)中的任意一种；

R3为炔丙基、苯基中的一种；

R₄和R₅是氢(-H)、氮杂环丁基、以及式Ⅲ所示基团中的任意一种与式Ⅳ所示基团的组合，并且在组合中，式Ⅳ所示基团是R₄或者是R₅；

所述R₆为C₁～C₄烷基中一种，n为4。

2.根据权利要求1所述的基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料，其特征在于，所述R₃为苯基。

3.根据权利要求1所述的基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料，其特征在于，所述R₄为式Ⅳ所示基团，其中，n为4。

4.根据权利要求1所述的基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料，其特征在于，所述R₅为式Ⅲ所示基团，其中R₆为乙基。

5.一种如权利要求1所述的基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料制备方法，其特征在于，步骤如下：

在碱性催化剂的三乙胺条件下，由式Ⅴ所示结构的化合物与式Ⅵ所示结构的化合物于乙醇有机溶剂中回流反应1～2小时，经Knoevenagel缩合生成如权利要求1所述的式Ⅰ所示结构的荧光染料；

其中，式中：

R₁、R₂分别独立选自：氰基(-CN)和式Ⅱ所示基团中的任意一种；

R₄和R₅是氢(-H)、氮杂环丁基、以及式Ⅲ所示基团中的任意一种与式Ⅳ所示基团的组合，并且在组合中，式Ⅳ所示基团是R₄或者是R₅；

所述R₃为炔丙基、苯基中的一种；

所述R₆为C₁～C₄烷基中一种，n为4。

6.根据权利要求5所述的基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料制备方法，其特征在于，所述步骤中将1当量的式Ⅴ所示结构的化合物与3当量的式Ⅵ所示结构的化合物溶于乙醇中，三乙胺作为催化剂，回流条件下反应1～2h；反应结束后，硅胶柱层析分离得到式Ⅰ所示结构的荧光染料。

7.根据权利要求1至4任一项所述一种基于聚集诱导发光近红外、大斯托克斯位移、光稳定的荧光染料用于细胞中线粒体荧光标记的应用，实现对线粒体的长时间示踪和实时三维可视化成像。