[发明专利]涂敷处理装置和杯体

摘要

本发明在以旋转式在基板上涂敷涂敷液的涂敷处理装置中，防止涂敷液被设置于杯体内的气流控制板弹返而飞散到晶片的表面上。抗蚀剂涂敷装置包括收纳旋转卡盘(121)并从底部排气的杯体，该杯体包括：与保持于旋转卡盘(121)的晶片(W)相比位于顶部侧，包围该晶片(W)的外周的气流控制部(151)；和支承气流控制部的支承部(153)，该支承部其一个端部与杯体(125)的内周面连接，另一个端部与上述一个端部相比位于顶部侧并且与气流控制部连接，在上述支承部形成有在与晶片的旋转轴垂直的方向上穿透的形状的第1孔(153a)，在比该第1孔靠外侧下方的位置形成有在晶片的旋转轴方向上穿透的形状的第2孔(153b)。

主权项

1.一种涂敷处理装置，其在基板上涂敷涂敷液，所述涂敷处理装置的特征在于，包括：保持基板并使该基板旋转的基板保持部；对保持于该基板保持部的基板涂敷涂敷液的涂敷液供给部件；和收纳所述基板保持部，从底部进行排气的杯体，该杯体包括：与保持于所述基板保持部的基板相比位于顶部侧，包围该基板的外周的气流控制部；和支承所述气流控制部的支承部，该支承部其一个端部与该杯体的内周面连接，另一个端部连接有与所述一个端部相比位于顶部侧的所述气流控制部，并且，在所述支承部设置有在与所述基板的旋转轴垂直的方向上穿透的形状的第1孔，在比该第1孔靠外侧下方的位置设置有在所述基板的旋转轴方向上穿透的形状的第2孔。