[发明专利]基板处理装置

摘要

提供一种基板处理装置。在利用超临界状态的处理流体的干燥方法中，抑制形成于晶圆上表面的图案破坏。实施方式所涉及的基板处理装置用于进行干燥处理，该干燥处理为使由于液体而上表面湿润的状态的基板与超临界状态的处理流体接触来使基板干燥的处理，该基板处理装置具备：主体，其在内部形成有能够收纳基板的处理空间；保持部，其在主体的内部保持基板；供给部，其设置于被保持部保持的基板的侧方，向处理空间内供给处理流体；排出部，其从处理空间内排出处理流体；以及流路限制部，其限制在使处理流体从供给部流通到排出部时形成的流路的上游侧处的下端部。而且，流路限制部的上端部配置于比被保持部保持的基板的上表面高的位置。

主权项

1.一种基板处理装置，进行干燥处理，该干燥处理为使由于液体而上表面湿润的状态的基板与超临界状态的处理流体接触来使所述基板干燥的处理，所述基板处理装置具备：主体，其在内部形成有能够收纳所述基板的处理空间；保持部，其在所述主体的内部保持所述基板；供给部，其设置于被所述保持部保持的所述基板的侧方，向所述处理空间内供给所述处理流体；排出部，其从所述处理空间内排出所述处理流体；以及流路限制部，其限制在使所述处理流体从所述供给部流通到所述排出部时形成的流路的上游侧处的下端部，其中，所述流路限制部的上端部配置于比被所述保持部保持的所述基板的上表面高的位置。