[发明专利]处理方案的评价方法、评价用辅助装置和液体处理装置

摘要

本发明提供一种在该液体处理装置中能够对处理方案的液体飞溅的风险进行评价的技术，该液体处理装置对基片供给处理液体并且使基片旋转来对基片进行液体处理。在显影装置中，预先在第一存储部(93)制作了风险数据，该风险数据针对晶片(W)的转速和在晶片(W)的显影液的供给位置的每一组合对应有液体飞溅数。并且，当使用者制作处理方案时，根据上述风险数据显示该处理方案中设定的液体飞溅数的经时变化、在处理方案设定的液体飞溅的总数、在各显影步骤中设定的液体飞溅数等的液体飞溅风险。因此，使用者能够掌握重新制作的或者变更了的处理方案的液体飞溅风险，所以能够对处理方案的评价有贡献。

主权项

1.一种处理方案的评价方法，其对液体处理装置中使用的处理方案进行评价，所述液体处理装置通过一边使水平地保持基片的保持部绕铅垂轴旋转一边从喷嘴对该基片供给处理液体来进行液体处理，所述处理方案的评价方法的特征在于，包括：将由包括喷嘴位置和基片转速的参数值的组合的时间序列数据构成的处理方案存储在第一存储部中的步骤；从所述第一存储部读取所述处理方案的步骤；从第二存储部读取预先制作的将参数值的组合和与液体飞溅的风险对应的风险信息相关联而形成的风险数据的步骤；和基于从所述第一存储部读取的处理方案和从第二存储部读取的风险数据显示辅助数据的步骤，其中所述辅助数据是关于处理方案中的所述参数值的组合的液体飞溅的风险信息。