[发明专利]处理方案的评价方法、评价用辅助装置和液体处理装置有效
| 申请号: | 201810153767.6 | 申请日: | 2018-02-22 |
| 公开(公告)号: | CN108461392B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
| 发明(设计)人: | 鹤田丰久;桾本裕一朗;羽山隆史;滨田佳志 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L21/67;G03F7/30 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 方案 评价 方法 辅助 装置 液体 | ||
1.一种处理方案的评价方法,其对液体处理装置中使用的处理方案进行评价,所述液体处理装置通过一边使水平地保持基片的保持部绕铅垂轴旋转一边从喷嘴对该基片供给处理液体来进行液体处理,所述处理方案的评价方法的特征在于,包括:
将由包括喷嘴位置和基片转速的参数值的组合的时间序列数据构成的处理方案存储在第一存储部中的步骤;
从所述第一存储部读取所述处理方案的步骤;
从第二存储部读取预先制作的将参数值的组合和与液体飞溅的风险对应的风险信息相关联而形成的风险数据的步骤;和
基于从所述第一存储部读取的处理方案和从第二存储部读取的风险数据显示辅助数据的步骤,其中所述辅助数据是关于处理方案中的所述参数值的组合的液体飞溅的风险信息。
2.如权利要求1所述的处理方案的评价方法,其特征在于:
所述液体飞溅的风险信息是与从喷嘴向处理基片排出处理液时产生的液滴的产生频率对应的信息。
3.如权利要求2所述的处理方案的评价方法,其特征在于:
所述液滴的产生频率是基于向基片的表面的上方照射片形的激光并且用摄像机拍摄的拍摄结果对液滴进行计数,基于该计数结果而得到的。
4.如权利要求1~3中任一项所述的处理方案的评价方法,其特征在于:
所述处理方案是将由参数值的组合和维持该组合的时间构成的工步按时间序列排列而形成的,
所述显示辅助数据的步骤是将所述工步与风险信息相关联地显示的步骤。
5.如权利要求1~3中任一项所述的处理方案的评价方法,其特征在于:
所述显示辅助数据的步骤是将所述参数值的组合的时间序列数据与风险信息相关联地显示的步骤。
6.一种存储介质,其保存有在液体处理装置中使用的辅助软件,所述液体处理装置通过一边使水平地保持基片的保持部绕铅垂轴旋转一边从喷嘴对该基片供给处理液体来进行液体处理,所述存储介质的特征在于:
所述辅助软件包括执行步骤组的程序,所述步骤组包括:
从第一存储部中读取由包括喷嘴位置和基片转速的参数值的组合的时间序列数据构成的处理方案的步骤;
从第二存储部读取预先制作的将参数值的组合和与液体飞溅的风险对应的风险信息相关联而形成的风险数据的步骤;和
基于从所述第一存储部读取的处理方案和从第二存储部读取的风险数据制作辅助数据的步骤,其中所述辅助数据是关于处理方案中的所述参数值的组合的液体飞溅的风险信息。
7.如权利要求6所述的存储介质,其特征在于:
所述辅助软件包含所述风险数据。
8.一种处理方案评价用的辅助装置,其为液体处理装置中使用的处理方案评价用的辅助装置,所述液体处理装置通过一边使水平地保持基片的保持部绕铅垂轴旋转一边从喷嘴对该基片供给处理液体来进行液体处理,所述处理方案评价用的辅助装置的特征在于,包括:
输入部,其用于输入由包括喷嘴位置和基片转速的参数值的组合的时间序列数据构成的处理方案;
存储所输入的处理方案的第一存储部;
存储将与液体飞溅的风险对应的风险信息和包括喷嘴位置和转速的参数值的组合相关联而形成的风险数据的第二存储部;
基于存储在所述第一存储部的处理方案和存储在第二存储部的风险数据制作辅助数据的辅助数据制作部,其中所述辅助数据是关于处理方案中的所述参数值的组合的液体飞溅的风险信息;和
用于显示由所述辅助数据制作部制作的风险信息的显示部。
9.一种液体处理装置,其特征在于,包括:
液体处理组件,其包括被杯体包围的保持部,通过将基片水平地保持在所述保持部并使所述基片一边绕铅垂轴旋转一边从喷嘴对该基片供给处理液体,由此进行液体处理;和
权利要求8所述的处理方案评价用的辅助装置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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