[发明专利]电极结构及电极结构的制作方法有效
| 申请号： | 201810121437.9 | 申请日： | 2018-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN108399030B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 木村徹 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电极结构，所述电极结构包括依次层叠设置的基板、氧化铟锡层、金属层；及设置在所述氧化铟锡层和金属层之间的金属氧化物粘着层。本发明还公开了一种电极结构的制作方法，包括提供基板；在所述基板上设置氧化铟锡层；在所述氧化铟锡层上设置金属氧化物粘着层；及在所述金属氧化物粘着层上设置金属层。本发明还公开了一种电极结构的制作方法，通过上述方式，以提高电极结构中氧化铟锡层与金属层间的粘着力。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种电极结构，其特征在于，包括：依次层叠设置的基板、氧化铟锡层、金属层；及设置在所述氧化铟锡层和所述金属层之间的金属氧化物粘着层。
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