[发明专利]电极结构及电极结构的制作方法

说明书

本发明公开了一种电极结构，所述电极结构包括依次层叠设置的基板、氧化铟锡层、金属层；及设置在所述氧化铟锡层和金属层之间的金属氧化物粘着层。本发明还公开了一种电极结构的制作方法，包括提供基板；在所述基板上设置氧化铟锡层；在所述氧化铟锡层上设置金属氧化物粘着层；及在所述金属氧化物粘着层上设置金属层。本发明还公开了一种电极结构的制作方法，通过上述方式，以提高电极结构中氧化铟锡层与金属层间的粘着力。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种电极结构及电极结构的制作方法。

背景技术

触摸屏是一种输入设备，能够方便实现人与计算机及其它便携式移动设备的交互作用。近年来，基于氧化铟锡(ITO，Indium Tin Oxides)透明导电薄膜的电容触摸屏被广泛应用于移动互联设备，如智能手机，便携式平板电脑。

透明导电薄膜不但要求好的导电性，还要有优良的可见光透过性，为了使材料具有更好的导电性，现有技术如图1所示电极结构00是在ITO层20上通过溅镀成膜的方式设置金属层30，提高其导电性能，并且在金属层30两侧设置适当厚度的金属保护层40以保护金属层30不被氧化和腐蚀，但随着智能手机、平板有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)显示屏、触摸屏板(TSP，Touch Screen Panel)高精细化发展，提高界面的美观(如摩尔纹，ITO图案可视化)的要求越来越高，特别是在做窄边框的时候，图案线宽比较窄，对电极结构00中ITO层20与金属层30间的粘着力要求比较高，图案宽度从10μm到5μm以下的时候，金属层进行干湿蚀刻后，粘着力变差，会引起金属层30从ITO层20上剥落等显示不良，以及触摸传感器敏感度不良等问题。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种电极结构及电极结构的制作方法，以提高电极结构中ITO层与金属层间的粘着力。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：

提供一种电极结构，包括：

依次层叠设置的基板、氧化铟锡层、金属层；及

设置在所述氧化铟锡层和金属层之间的金属氧化物粘着层。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：

提供一种电极结构的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上设置氧化铟锡层；

在所述氧化铟锡层上设置金属氧化物粘着层；及

在所述金属氧化物粘着层上设置金属层。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过在电极结构的氧化铟锡层和金属层之间设置金属氧化物粘着层，以提高电极结构中氧化铟锡层与金属层间的粘着力。

附图说明

图1是现有技术中一种电极结构示意图；

图2是本发明电极结构示意图；

图3是本发明电极结构的制作方法的流程示意图；

图4是本发明电极结构的粘着力测试示意图；

图5是本发明电极结构的表面划格示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。

请参阅图2，是本发明电极结构示意图。电极结构00包括：

依次层叠设置的基板10、氧化铟锡层20、金属层30；及