[发明专利]用于玻璃的蚀刻曝光工艺在审

专利信息
申请号: 201810085257.X 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN108395110A 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 王友威 申请(专利权)人: 浙江蓝特光学股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;B08B11/04
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 姚海波
地址: 314023 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺,属于光学技术领域。它解决了现有技术存在着工艺复杂的问题。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺包括以下步骤:A、备料:选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用;B、镀膜:在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬,板状玻璃上形成一镀膜区;C、切割:将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃;D、匀胶;E、曝光、显影;F、蚀刻:将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动,抛动后件将其取出进行二次纯水淡化;G、清洗:将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺易于实施且工艺简便。
搜索关键词: 蚀刻 板状玻璃 曝光工艺 单片玻璃 玻璃 镀膜区 切割 清洗 淡化 光学技术领域 丙酮溶液 硝酸铈铵 金属铬 备料 镀膜 放入 烘干 后件 显影 匀胶 备用 取出 曝光
【主权项】:
1.一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺,该工艺包括以下步骤:A、备料:选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用;B、镀膜:在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬,板状玻璃上形成一镀膜区;C、切割:将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃;D、匀胶:通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶;E、曝光、显影:将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理,曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动,抛动后将其取出进行一次纯水淡化;F、蚀刻:将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动,抛动后件将其取出进行二次纯水淡化;G、清洗:将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。
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