[发明专利]用于玻璃的蚀刻曝光工艺

说明书

本发明提供了一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，属于光学技术领域。它解决了现有技术存在着工艺复杂的问题。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺包括以下步骤：A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；D、匀胶；E、曝光、显影；F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。本用于玻璃的蚀刻曝光工艺易于实施且工艺简便。

技术领域

本发明涉及一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺。

背景技术

随着科技的进步一些高端产品对于零件的精度要求越来越高，随之一些高精度的加工工艺也顺势成型。

其中在光学玻璃行业中光刻技术以其独有的加工特点和优势，在众多高精度的标记加工工艺中凸引而出。光刻技术是一种以化学反应原理和化学、物理蚀刻的方法把图案标记到玻璃产品上。其优势在于对玻璃产品没有任何损伤，标记图案完整清晰，精度非常高(能控制在±0.005以内)，工序简单，加工费用低。

现有加工方法中，玻璃上做标记的加工方式都是在玻璃进行挖槽或者开孔，不可避免的对玻璃造成不可逆的损伤(如崩口、断裂、划伤等)，在无形中增加了成本。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种成品率高且易于实施的用于玻璃的蚀刻曝光工艺。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：

一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：

A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；

B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；

C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；

D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶；

E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化；

F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；

G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA 烘干。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤B中在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤B中在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤C中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤D中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动30—60秒后再进行一次纯水淡化。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动15—40秒后再进行二次纯水淡化。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤G后对其进行测量。

在上述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺中，所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。