[发明专利]用于玻璃的蚀刻曝光工艺

权利要求书

1.一种用于玻璃的蚀刻曝光工艺，该工艺包括以下步骤：

A、备料：选取设定宽度和厚度的板状玻璃备用；

B、镀膜：在板状玻璃的指定区域均匀镀上一层金属铬，板状玻璃上形成一镀膜区；

C、切割：将上述具有镀膜区的板状玻璃切割为设定尺寸的单片玻璃；

D、匀胶：通过现有的匀胶机及其匀胶工艺在单片玻璃的镀膜区处覆盖一层正性光刻胶；

E、曝光、显影：将匀胶后的单片玻璃在现有的曝光机上进行曝光处理，曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液中抛动，抛动后将其取出进行一次纯水淡化；

F、蚀刻：将一次纯水淡化后的单片玻璃放入硝酸铈铵溶液中抛动，抛动后件将其取出进行二次纯水淡化；

G、清洗：将蚀刻后的单片玻璃经丙酮溶液清洗后再进行IPA烘干。

2.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤B中在板状玻璃上做标记点，上述镀膜区由标记点向外扩散。

3.根据权利要求2所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤B中在板状玻璃上做“十字星”标记，上述镀膜区由“十字星”处向外扩散。

4.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤C中对单片玻璃进行外形加工，保证单片玻璃的外形尺寸以及光洁度。

5.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤D中将匀胶后的单片玻璃在100℃加热板上烘烤2.5分钟。

6.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤E中将曝光后的单片玻璃在氢氧化钠溶液里上下抛动30—60秒后再进行一次纯水淡化。

7.根据权利要求1所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤F中将将依次纯水淡化后的单片玻璃在硝酸铈铵溶液中抛动15—40秒后再进行二次纯水淡化。

8.根据权利要求3所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G后对其进行测量。

9.根据权利要求8所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G后的测量包括对标记的尺寸及其位置进行测量，同时还对图案的完整性进行判断。

10.根据权利要求9所述的用于玻璃的蚀刻曝光工艺，其特征在于，所述步骤G中对标记点或者“十字星”的大小尺寸及其位置进行测量。