[发明专利]高功率GaN器件与结构有效
| 申请号: | 201810085076.7 | 申请日: | 2018-01-29 |
| 公开(公告)号: | CN108470764B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
| 发明(设计)人: | 李湛明;傅玥;吴伟东;刘雁飞 | 申请(专利权)人: | 苏州量芯微半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/41 | 分类号: | H01L29/41;H01L29/778;H01L21/335;H01L21/28 |
| 代理公司: | 北京久诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11542 | 代理人: | 余罡 |
| 地址: | 215125 江苏省苏州市中国(江苏)自由*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明描述了具有良好功率操控和散热性能的半导体器件和结构。本发明适用于GaN材料领域。器件可以是分立的方形或菱形芯片,在这些芯片的角落上有电极接线端、锥形电极基底和相互交叉的电极指。器件矩阵结构为在衬底上由数个芯片以具有相互交叉电路的矩阵构型排列而成。器件点阵结构以包含多个分立器件的单位原胞为基础建立,这些单位原胞按照几何结构周期性地贴焊在芯片上。同时,本发明也描述了实现这种半导体器件和结构的方法。 | ||
| 搜索关键词: | 功率 gan 器件 结构 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于,包括:一个有四条边和四个角的芯片,其中,第一和第二个角相对,第三和第四个角相对;第一和第二个的电极位于芯片的第一和第二个角上,每一个电极由一个焊盘,一个锥形基底和从锥形基底延伸出来的数个电极指;第一和第二个电极的焊盘分别位于芯片的第一和第二个角上;第一和第二个电极的锥形基底的宽度分别沿其所在芯片角的两边方向逐渐减小;第一和第二个电极的数个电极指是互相交叉的,并且在第一和第二个电极的互相交叉的电极指之间有一个导电沟道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州量芯微半导体有限公司,未经苏州量芯微半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810085076.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:包括掩埋层的半导体器件
- 下一篇:石墨烯垂直异质结器件及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类





