[发明专利]坩埚和蒸镀设备有效
| 申请号： | 201810022065.4 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN108004510B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 梁文青;洪晓雯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种坩埚和蒸镀设备，属于镀膜设备领域。所述坩埚包括：坩埚腔室、坩埚开口和设置在坩埚腔室中的栅格；所述栅格将所述坩埚腔室分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室中设置有成膜材料放置部；所述坩埚开口设置在所述第二腔室的内壁上，连通所述坩埚腔室的内部和外部。本发明通过栅格在一定程度上来限制成膜材料升华后形成的蒸汽的流动，进而增大栅格和成膜材料之间的压强，提高成膜材料的升华为蒸汽的速率，进而增大蒸汽溢散到坩埚开口的速度。解决了相关技术中成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较慢的问题。达到了成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较快的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 设备 | ||
【主权项】：
1.一种坩埚，其特征在于，所述坩埚包括：坩埚腔室、坩埚开口和设置在所述坩埚腔室中的栅格；所述栅格将所述坩埚腔室分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室中设置有成膜材料放置部；所述坩埚开口设置在所述第二腔室的内壁上，连通所述坩埚腔室的内部和外部。
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