[发明专利]坩埚和蒸镀设备

说明书

本发明公开了一种坩埚和蒸镀设备，属于镀膜设备领域。所述坩埚包括：坩埚腔室、坩埚开口和设置在坩埚腔室中的栅格；所述栅格将所述坩埚腔室分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室中设置有成膜材料放置部；所述坩埚开口设置在所述第二腔室的内壁上，连通所述坩埚腔室的内部和外部。本发明通过栅格在一定程度上来限制成膜材料升华后形成的蒸汽的流动，进而增大栅格和成膜材料之间的压强，提高成膜材料的升华为蒸汽的速率，进而增大蒸汽溢散到坩埚开口的速度。解决了相关技术中成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较慢的问题。达到了成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较快的效果。

技术领域

本发明涉及镀膜设备领域，特别涉及一种坩埚和蒸镀设备。

背景技术

蒸镀设备通常包括蒸镀腔室和位于蒸镀腔室中的坩埚，该坩埚用于加热成膜材料以生成蒸汽，该蒸汽溢散到放置在蒸镀腔室中的待镀膜器件的表面时，会在该表面形成薄膜。

相关技术中的一种坩埚包括坩埚腔室和设置在该坩埚腔室上的坩埚开口，该坩埚腔室用于设置成膜材料，在加热该坩埚腔室之后，成膜材料形成的蒸汽会从坩埚开口溢出，以到达蒸镀腔室中。

在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较慢。

发明内容

本发明实施例提供了一种坩埚和蒸镀设备，能够解决相关技术中成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较慢的问题。所述技术方案如下：

根据本发明实施例的第一方面，提供了一种坩埚，所述坩埚包括：

坩埚腔室、坩埚开口和设置在坩埚腔室中的栅格；

所述栅格将所述坩埚腔室分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室中设置有成膜材料放置部；

所述坩埚开口设置在所述第二腔室的内壁上，连通所述坩埚腔室的内部和外部。

可选的，所述栅格包括开口区域和遮挡区域，所述开口区域位于所述遮挡区域的边缘。

可选的，所述坩埚腔室为柱状的腔室，所述坩埚腔室的轴线与所述栅格的遮挡区域相交。

可选的，所述坩埚腔室为圆柱状的腔室，所述栅格为圆形的栅格，所述坩埚腔室的轴线与所述栅格的中心相交。

可选的，所述开口区域包括围绕所述栅格的中心均匀排布的多个子开口区域。

可选的，任意一个所述子开口区域包括沿所述栅格径向排布的至少两个扇环状开口区域。

可选的，所述栅格的材料包括钛、石墨和陶瓷的任意一种。

可选的，所述栅格包括均匀分布的多个孔状的开口。

可选的，所述第二腔室包括腔室主体和与所述腔室主体可拆连接的腔室盖。

根据本发明实施例的第二方面，提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括蒸镀腔室和第一方面所述的坩埚。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

通过栅格在一定程度上来限制成膜材料升华后形成的蒸汽的流动，进而增大栅格和成膜材料之间的压强，提高成膜材料的升华为蒸汽的速率，进而增大蒸汽溢散到坩埚开口的速度。解决了相关技术中成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较慢的问题。达到了成膜材料形成的蒸汽溢散到坩埚开口的速度较快的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是相关技术中的一种蒸镀设备的结构示意图；