[发明专利]坩埚和蒸镀设备有效
| 申请号： | 201810022065.4 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN108004510B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 梁文青;洪晓雯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种坩埚，其特征在于，所述坩埚包括：
坩埚腔室、坩埚开口和设置在所述坩埚腔室中的栅格，所述栅格包括开口区域和遮挡区域，所述遮挡区域用于遮挡所述坩埚的中央，所述开口区域均位于所述遮挡区域的边缘；
所述栅格将所述坩埚腔室分隔成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室中设置有成膜材料放置部；
所述第二腔室包括腔室主体和与所述腔室主体可拆连接的腔室盖，所述坩埚开口设置在所述腔室盖上，连通所述坩埚腔室的内部和外部；
所述坩埚腔室为圆柱状的腔室，所述栅格为圆形的栅格，所述坩埚腔室的轴线与所述栅格的中心相交，所述坩埚腔室的轴线与所述栅格的遮挡区域相交，所述栅格与所述坩埚腔室的内壁之间密封连接；
所述开口区域包括围绕所述栅格的中心均匀排布的多个子开口区域；
任意一个所述子开口区域包括沿所述栅格径向排布的至少两个扇环状开口区域。
2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述栅格的材料包括钛、石墨和陶瓷的任意一种。
3.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述栅格包括均匀分布的多个孔状的开口。
4.一种蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备包括蒸镀腔室和权利要求1至3任一所述的坩埚。
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