[发明专利]曝光方法、UV掩膜板及其制备方法

摘要

本发明公开了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，其中，所述UV掩膜板的制备方法利用在制备显示面板的过程中必需的黑矩阵掩膜板来进行UV掩膜板的制备，通过在基板上依次形成第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形以形成能够完全覆盖显示面板的显示区域的UV掩膜板，所述UV掩膜板的制备方法在制备UV掩膜板的过程中无需新开专用的掩膜板，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。

主权项

1.一种UV掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。