[发明专利]曝光方法、UV掩膜板及其制备方法

说明书

本发明公开了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，其中，所述UV掩膜板的制备方法利用在制备显示面板的过程中必需的黑矩阵掩膜板来进行UV掩膜板的制备，通过在基板上依次形成第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形以形成能够完全覆盖显示面板的显示区域的UV掩膜板，所述UV掩膜板的制备方法在制备UV掩膜板的过程中无需新开专用的掩膜板，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。

技术领域

本发明涉及显示器件技术领域，特别涉及一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法。

背景技术

UV(Ultraviolet radiation，紫外)掩膜板在显示面板的阵列基板和彩膜基板用胶框贴合时用到的一种掩膜板。

参考图1，图1为显示面板的阵列基板和彩膜基板胶框贴合过程的示意图，在实际应用过程中，首先需要设置UV掩膜板20，使得UV掩膜板20完全覆盖显示面板的显示区域(AA区域)，并暴露出胶框所在区域(非AA区域)；然后利用紫外光UV对胶框10进行照射，以使胶框10固化，实现阵列基板和彩膜基板的贴合。在这个过程中，UV掩膜板20完全覆盖显示面板的显示区域的目的是避免盒内材料被紫外光照射分解而使得最终的显示面板出现显示不良的情况。

通常情况下，针对不同尺寸或不同型号的显示面板都需要为其配备专用的UV掩膜板来满足阵列基板和彩膜基板胶框贴合的要求，而每一种显示面板专用的UV掩膜板又需要新开专用的掩膜板来制作，而UV掩膜板制备完成后，制备该UV掩膜板的掩膜板就失去了利用的价值，不仅造成了资源的浪费，而且增加了UV掩膜板的制备成本。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，以实现利用现有的黑矩阵掩膜板制备UV掩膜板的目的，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。

本发明实施例提供一种UV掩膜板的制备方法，包括：

提供基板；

在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；

在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；

在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；

所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；

在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；

所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。

一种UV掩膜板，由上述任一项所述的UV掩膜板的制备方法制备获得；

所述UV掩膜板为由遮光材料构成的遮光板，所述遮光板的覆盖面积大于或等于显示面板的显示区域的面积。