[发明专利]曝光方法、UV掩膜板及其制备方法

权利要求书

1.一种UV掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；

在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；

在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；

所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；

在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；

所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一预设距离大于或等于显示面板的相邻像素之间在第一方向上的间距，小于所述显示面板的像素在第一方向上的边长。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一预设距离的取值为所述显示面板的像素在第一方向上尺寸的二分之一。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二预设距离大于或等于显示面板的相邻像素之间在第二方向上的间距，小于所述显示面板的像素在第二方向上的边长。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二预设距离的取值为所述显示面板的像素在第二方向上尺寸的二分之一。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第三方向与所述第三预设距离l满足下列条件；

d1≤lsinα≤d2且d3≤lcosα≤d4；

其中，d1为所述显示面板相邻像素之间在第一方向上的距离，d2为所述显示面板的像素在第一方向上的边长，d3为所述显示面板相邻像素之间在第二方向上的距离，d4为所述显示面板的像素在第二方向上的边长，l为所述第三预设距离，α为所述第三预设方向与第二方向的夹角。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第三预设距离的取值满足