[发明专利]真空蒸发源在审
| 申请号： | 201780094751.6 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN111051562A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 黃道元 | 申请（专利权）人： | 艾尔法普拉斯株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供能够有效地加热坩埚底部的真空蒸发源。为此，本发明的方面提供了具有在壳体的内部空间中的坩埚的真空蒸发源，所述真空蒸发源包括：底部反射器，其定位于所述坩埚的底部与所述内部空间的底部表面之间形成的下部空间的上半部分中；支撑件，其设置在所述内部空间的底部表面上以支撑所述底部反射器；以及加热器，其定位于所述内部空间的侧面与所述坩埚的外侧之间并且延伸至所述底部反射器的上表面。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 蒸发 | ||
【主权项】：
暂无信息
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