[发明专利]真空蒸发源在审
| 申请号： | 201780094751.6 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN111051562A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 黃道元 | 申请（专利权）人： | 艾尔法普拉斯株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 蒸发 | ||
【权利要求书】：
1.具有在壳体的内部空间中的坩埚的真空蒸发源，包括：
底部反射器，其定位于所述坩埚的底部与所述内部空间的底部表面之间形成的下部空间的上半部分中；
支撑件，其设置在所述内部空间的底部表面上以支撑所述底部反射器；以及
加热器，其定位于所述内部空间的侧面与所述坩埚的外侧之间并且延伸至所述底部反射器上表面。
2.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述底部反射器具有其中多个反射板重叠的模块形状。
3.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中定位于所述多个反射板的最高位置处的最上反射板由绝缘材料制成，以及
其中所述加热器的下端支撑在所述最上反射板的上表面上。
4.如权利要求3所述的真空蒸发源，其中所述最上反射板由作为所述绝缘材料的陶瓷制成，并且具有盘型。
5.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述支撑件包括：
竖直支撑件，其竖直地放置在所述内部空间的底部表面上；以及
水平支撑件，其设置在所述竖直支撑件的上端，被设置成与所述内部空间的底部表面是水平的，并且所述底部反射器安装在所述水平支撑件上，
其中确定所述竖直支撑件的高度，使得所述底部反射器放置在所述下部空间的上半部分上。
6.如权利要求1所述的真空蒸发源，还包括：
底部反射板，其设置在所述内部空间的底部表面上。
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