[发明专利]蒸镀掩模在审

专利信息
申请号: 201780085863.5 申请日: 2017-10-30
公开(公告)号: CN110268089A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 小野敬亮;武田笃;山田哲行;成谷元嗣;为川贡;大河原健;平坂直人;渡边大树 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 邸万杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是在使用掩模进行的成膜中实现高精度的图案成膜。本发明提供一种蒸镀掩模,其特征在于,包括:掩模主体,其具有形成有图案开口的图案部和包围该图案部的框部;掩模框架,其用于支承上述掩模主体的框部;和配置在上述掩模主体与上述掩模框架之间的中间部件,其具有与上述掩模框架对应的形状,上述掩模主体和上述中间部件的第一面接合,上述掩模框架和上述中间部件的与上述第一面相反一侧的面接合。
搜索关键词: 掩模框架 掩模主体 中间部件 面接合 图案部 成膜 框部 图案 蒸镀掩模 掩模 蒸镀 支承 开口 包围 配置
【主权项】:
1.一种蒸镀掩模,其特征在于,包括:掩模主体,其具有形成有图案开口的图案部和包围该图案部的框部;掩模框架,其用于支承所述掩模主体的框部;和配置在所述掩模主体与所述掩模框架之间的中间部件,其具有与所述掩模框架对应的形状,所述掩模主体和所述中间部件的第一面接合,所述掩模框架和所述中间部件的与所述第一面相反一侧的面接合。
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