[发明专利]化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和脒化合物有效
| 申请号： | 201780068589.0 | 申请日： | 2017-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN109923119B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 吉野智晴;冈田奈奈;西田章浩;山下敦史 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C07F15/06 | 分类号： | C07F15/06;C07C257/14;C23C16/18 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 吴宗颐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及薄膜形成用原料，其含有下述通式(1)表示的化合物(式中，R |
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| 搜索关键词： | 化合物 薄膜 形成 原料 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.下述通式(1)表示的化合物，![]()
式中，R1表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，R2表示氢或碳数1～5的直链或支链状的烷基，R3和R4各自独立地表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，A表示碳数1～4的链烷二基，M表示铜、铁、镍、钴或锰。
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