[发明专利]日照遮蔽构件有效
| 申请号： | 201780056455.7 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109716180B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 加藤和广;堀江裕树 | 申请（专利权）人： | 中央硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;B32B9/00;B32B15/04;G02B1/115;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 得到一种日照遮蔽构件，其不会损害日照透过率、具有良好的可见光线透过率、从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感。一种日照遮蔽构件，在透明基材上层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜，该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 日照 遮蔽 构件 | ||
【主权项】：
1.一种日照遮蔽构件，其为在透明基材上依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜的日照遮蔽构件，其特征在于，该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。
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