[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

摘要

调温部C1对向显影喷嘴21供给的显影液的温度进行调节。调温部C2、C3分别对向冲洗喷嘴31以及背部冲洗喷嘴35供给的冲洗液的温度进行调节。调温部C4对向处理喷嘴41供给的处理液的温度进行调节。调温部C2、C3、C4将冲洗液及处理液的温度调节在恒定的范围内。在抗蚀剂膜F1的显影处理后，一边将基板W的温度调节在恒定范围内，一边以覆盖抗蚀剂图案FP1的方式在基板的一面形成具有比抗蚀剂膜的耐蚀刻性高的耐蚀刻性的反转膜F2。

主权项

1.一种基板处理装置，对在一面形成有由感光性材料构成的抗蚀剂膜的基板进行处理，其中，所述基板处理装置具有：显影处理部，通过使用显影液进行所述抗蚀剂膜的显影处理，在基板的所述一面形成抗蚀剂图案；以及反转膜形成部，在由所述显影处理部进行显影处理后，一边将基板的温度调节在恒定范围内，一边以覆盖所述抗蚀剂图案的方式在基板的所述一面形成具有比所述抗蚀剂膜的耐蚀刻性高的耐蚀刻性的反转膜。