[发明专利]核糖核酸H-磷酸酯单体的合成方法和使用了该单体的寡核苷酸合成有效
申请号: | 201780051108.5 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN109641931B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 井上聪;姬野康平;南海浩一;田中睦生;村上悌一 | 申请(专利权)人: | 基因设计有限公司;国立研究开发法人产业技术综合研究所 |
主分类号: | C07H19/10 | 分类号: | C07H19/10;C07F9/141;C07H19/20;C12N15/09 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及核糖核酸H‑磷酸酯单体的合成方法和使用了该单体的寡核苷酸合成的方法。本发明涉及选择性地保护合成RNA寡核苷酸所需的核糖核苷单体的2’位、且能够以低成本制造的H‑磷酸酯核苷衍生物的制造方法。本发明的特征在于,通过使反应性稍有不同的2’位和3’位的羟基与芳香族酰卤在低温下反应,从而进行2’位选择性的酯化,随后通过利用膦酰基捕获一锅中的3’位的羟基,而不会引起酰基的2’位和3’位的重排。 | ||
搜索关键词: | 核糖核酸 磷酸酯 单体 合成 方法 使用 寡核苷酸 | ||
【主权项】:
1.一种制造以下的通式所示的化合物或其盐或其溶剂化物的方法,[化学式1]
式(1)中,R1表示选自由取代或未取代的芳基和取代或未取代的杂芳基组成的组的基团,R2表示氢原子或羟基的保护基,B表示任选具有保护基的核酸碱基,该方法包括工序1和工序2,工序1是使[化学式2]与[化学式3]反应而得到[化学式4]的工序,[化学式2]
[化学式3]
式(3)中,X为卤素原子,[化学式4]
工序2是使[化学式5]与P(OR3)(OR3’)OH反应而得到[化学式6]的工序,[化学式5]
[化学式6]
式P(OR3)(OR3’)OH中,R3和R3’分别独立地表示选自由取代或未取代的芳基和取代或未取代的杂芳基组成的组的基团,该工序1和该工序2在1个反应容器内进行。
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