[发明专利]碎片减少系统、辐射源和光刻设备有效
| 申请号： | 201780045786.0 | 申请日： | 2017-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN109478026B | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | M·瑞鹏;P·P·A·A·布洛姆;R·J·赫尔特门斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在辐射源中使用的碎片减少系统。所述碎片减少系统包括污染物陷阱。所述污染物陷阱包括碎片接收表面，所述碎片接收表面被布置成接收从辐射源的等离子体形成区域发射的液态金属燃料碎片。所述碎片接收表面由下述材料构成：该材料与所述液态金属燃料碎片反应以在所述碎片接收表面上形成金属间化合层。 | ||
| 搜索关键词： | 碎片 减少 系统 辐射源 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种在辐射源中使用的碎片减少系统，包括：污染物陷阱，包括碎片接收表面，所述碎片接收表面被布置成接收从所述辐射源的等离子体形成区域发射出的液态金属燃料碎片，其中，所述碎片接收表面由与所述液态金属燃料碎片反应以在所述碎片接收表面上形成金属间化合层的材料构成。
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